TPDRO1100の概要

触媒の開発において最も時間のかかるステップは、その表面特性と反応性を適切、正確に測定することではないでしょうか。 遊離金属表面積、金属分散度、表面の反応性など基礎的なデータは、再現性を高めるために、 長い行程を正確に繰り返し実行する必要があります。TPDRO1100は最も要求殿高い、昇温脱離反応TPD、 昇温還元反応TPR、昇温酸化反応TPO、パルスケミソープションを１台の装置で測定可能です。 各種純ガス、混合ガスが使用できます。

触媒の特性を調べるには、測定前にサンプルの活性化を行う必要があります。 しばしば前処理には測定より長い時間を要することがあります。 TPDRO1100は、独立した２系統のオーブンがあり、一方でまえしょりをする間にもう一方で測定が可能です。 新設計の石英ガラス／ステンレス製のマイクロリアクタは前処理後に外気を遮断して取り外すことが可能です。 TPDRO1100は、多数のサンプル測定をウォークアウェーで効率よく行うことができます。 また、質量分析計などとのシステムアップが簡単に行えます。

TPDRO1100の特徴

●新設計のマイクロリアクタにより、前処理後にサンプルの取り外しや保存ができます。また脱着ガスの細吸着を抑
　 え、 ピークのシフトブロード化がありません。
●独立した２系統のオーブン構成により、前処理と測定が同時に行えます。
●パルスケミソープション用に１０μｌからの微量ガス導入システムを備えています。
●触媒内部に挿入するＫタイプ熱電対により正確な温度測定が行えます。
●Windows版のソフトウエアが装置の性能を最大限に引き出します。

前処理と測定を同時に行う“ダブルオーブンシステム”

触媒の表面特性の評価は、触媒の開発において最も時間がかかるステップのひとつです。要求された測定方法の種類に応じて、測定前に前処理としてサンプルを活性化させる必要があります。例えば、昇温脱離測定を行う場合、まず触媒の表面に吸着していたガスを取り除き、その後測定に適したプローブガスを飽和状態まで吸着させます。この前処理の工程は、測定よりも時間を要する場合が少なくありません。TPDROは、独立した２つのオーブンを擁し、どちらも前処理用または測定用として別々に稼動させる事ができます。前処理と測定を並行して同時に行うことができますので測定時間を大幅に短縮します。

4方向バイパス回路内蔵型“スペシャルリアクター”

1度活性化させた触媒は、測定を行うまで決して反応ガスに接触させる事ができません。Thermo社が独自にデザインしたスペシャルリアクターは、触媒を外気と完全に遮断する4方向バルブとバイパス機構により、次の測定に移行するまでの間、簡単に触媒を不活性ガス雰囲気下で完全密閉した状態で保存や移動することを可能とします。また、熱伝対を取付け、測定中のサンプル触媒の温度をモニタリングする事も可能です。